평범한 기업에서 업계 선두주자로 발돋움

1945

Veeco(Vacuum Electronic Equipment Co.)는 누설 감지기 전문 업체로 설립되었습니다.

1989

설립 당시 Veeco의 COO였던 Edward H. Braun은 고위 임원진과 함께 반도체와 데이터 스토리지 산업 분야의 새로운 장비 회사를 만들기 위해 경영자 인수를 추진했습니다. Braun은 CEO로 지명되었습니다.

1994

Veeco는 NASDAQ 주식 시장에서 주식 상장을 완료했습니다. 그 당시 Veeco의 매출은 약 30백만 달러에 달했습니다.

1999

Veeco는 Ion Tech, Inc.를 인수했고 광학 코팅 시장에 진출했습니다.

2001

Veeco는 현재 미네소타주 세인트폴에 소재한 분자선 에피택시 그룹인 Applied EPI를 인수했습니다.

2003

Veeco는 뉴저지주 서머셋에 위치한 Emcore를 인수하면서 LED 시장을 위한 선도적인 금속 유기 화학 증착 시스템 사업의 토대를 마련했습니다.

2007

John Peeler는 CEO로 지명되었고 Veeco를 제품 개발 가속화, 유연한 운영 전략, 고성장 시장으로 이끌었습니다.

2008 – 2010

Veeco는 GEN10™과 GEN2000™ MBE 시스템, TurboDisc® K465i™ MOCVD 시스템 등 여러 혁신적인 시스템을 출시했습니다. Veeco는 공정 장비 사업에 집중하기 위해 계측 사업부를 매각했습니다.

2011

Veeco는 데이터 스토리지 분야에 NEXUS® DLC-X™, Optium® ADS-800™를 출시했고 TurboDisc MaxBright™ Multi-Reactor MOCVD 시스템을 출시했습니다. Veeco는 LED 제조에 중요한 MOCVD 시스템을 공급하는 최고의 공급업체로 등극했습니다.

2012

Veeco는 높은 처리량의 광학 코팅 응용을 위한 SPECTOR-HT 이온 빔 Sputtering 시스템을 도입했습니다.

2013

Veeco는 업계 최초 완전히 통합된 시스템인 GENxplor™ R&D MBE 시스템을 출시했습니다.

2014

Veeco는 고체 상태 조명 채택을 가속화하는 TurboDisc EPIK700 GaN MOCVD 시스템과 R&D에서 고효율 GaN 전력 전자 디바이스 생산으로 전환할 수 있는 Propel™ PowerGaN™ GaN MOCVD 시스템의 두 가지 MOCVD 시스템을 출시했습니다.

Veeco는 SSEC(Solid State Equipment LLC)를 인수하여 고성장 시장으로 진출했으며 SSEC를 Veeco PSP(정밀 표면 처리) 사업부로 개명했습니다.

2015

Veeco는 1년도 안 돼서 50번째 EPIK 700 MOCVD 리액터를 출고하였고, 아시아 지역 정상급 주조공장으로부터 정밀 표면 처리(PSP) WaferStorm™ 시스템을 여러 차례 수주하고 있습니다. 

2016

Veeco는 빨간색, 주황색, 노란색(R/O/Y) LED(발광 다이오드), 다중 접합 III-V 태양 전지, 레이저 다이오드 및 트랜지스터 생산을 위한 TurboDisc K475i™ As/P MOCVD 시스템을 출시했습니다. 

Veeco GENxplor MBE 시스템은 전 세계의 R&D 대학들 사이에서의 경쟁을 능가하는 최대 도구 설치 기반을 기록했습니다.

Veeco는 뉴욕(플레인뷰, 킹스턴, 포키프시) 제조 작업을 뉴저지주 서머셋의 한 시설로 통합하여 운영 효율성을 개선하고 고객 요구에 부응했습니다.

2017

Veeco는 고급 패키징 응용 분야 및 LED용 리소그래피 제품의 선두업체인 Ultratech, Inc를 인수했으며 반도체 소자 생산에 사용되는 레이저 스파이크 어닐링 기술의 선구자입니다.