갈륨 및 인듐용 Hot Lip SUMO 소스

그룹 III 재료 증발용으로 특별히 설계


대용량 도가니가 포함된 Veeco의 Hot Lip SUMO® 소스를 이용해 MBE(분자선 결정성장) 공정을 위한 탁월한 flux uniformity, 작은 shutter flux transients 및 최소화된 장기 감소 효과를 달성합니다. 효율 향상과 열 부하 감소를 목표로 설계된 이 소스는 우수한 재료 품질과 적은 결함 수, substrate 전반에 걸쳐 우수한 두께 균일성을 발휘합니다.

  • 특허 받은 설계로 1150개 이상 현장 배치
  • 늘어난 용량
  • 고도로 안정적인 작업
  • 미미한 백그라운드 불순물
  • 탁월한 flux uniformity
  • 재료 품질을 최적화하는 PBN 도가니 구조

MBE용 SUMO 소스는 그룹 III 증발을 위한 최적의 소스 기술입니다. SUMO 설계는 독특한 모양의 도가니에 맞춘 이중 filament 히터를 사용합니다. hot-lipped 모드로 작동하는 갈륨과 인듐 소스는 도가니 오리피스에서 재료의 recondensation을 방지하여 타원형 결함을 줄입니다. 열 차폐 마개는 소스의 효율성을 향상시키고 시스템의 열 부하를 최소화합니다. SUMO 소스는 탁월한 flux 안정성과 균일성을 갖추고 있으며 충전량이 크게 향상되었습니다.

특허 받은 도가니의 독특한 기능:

  • 넉넉한 충전량을 자랑하는 cylindrical 저장 탱크와 장기적 공핍 효과 최소화
  • flux 분배를 최적화하는 소형 테이퍼드 오리피스와 신경 쓰지 않아도 될 정도의 shutter flux transients
  • 재료 낭비를 최소화하고 탁월한 flux uniformity를 실현하는 배출구
  • 재료 품질을 최적화하는 PBN 구조

SUMO 소스는 모든 MBE 시스템에 최적화되어 있습니다. 일부 시스템의 경우 SUMO 도가니는 비대칭형 오리피스와 오프셋 배출구로 beam flux의 방향을 바꾸어서 회전 substrate 전체에 두께 균일성을 향상시킵니다. 더 넓어진 배출구 덕분에 비대칭형 SUMO는 도가니 입구에 별도의 열 차폐 마개를 사용하지 않습니다.

성능 및 장점

SUMO 소스는 재료 품질 또는 소스 성능을 잃지 않으면서도 가장 큰 그룹 III 충전량을 자랑합니다. 전 세계의 설비에서 substrate 전반에 걸친 우수한 두께 균일성과 탁월한 재료 품질을 실현하고 있습니다.

장점:

  • 넉넉한 충전량. 다른 판매 회사의 기존 그룹 III 소스를 비교해 보면 Ga 또는 In 충전량은 두 배가 될 수도 있습니다. SUMO 소스 크기는 시스템 형상과 소스 포트 위치에 의존해서 로드될 수 있는 소스 재료의 실제 양을 나타냅니다. 예를 들어 SUMO 소스 4500g은 갈륨 4500g 또는 인듐 5500g으로 로드될 수 있습니다.
  • 우수한 균일성. SUMO 소스는 기존의 권장 소스로 대부분의 MBE 시스템에서 도달한 두께 균일성을 맞추거나 초과하도록(±1%) 설계되었습니다.
  • 장기적 flux 안정성. 독특한 형태의 SUMO 도가니는 원추형 도가니에서 흔히 발생하는 장기적 공핍 효과를 최소화합니다. SUMO 소스는 일정한 용해 표면으로 일상 작업을 재현 가능하고 더 일정하게 해 줍니다. 일정한 beam flux가 온도 변화가 미세하거나 거의 변하지 않는 상태로 유지됩니다.
  • 결함 밀도가 미미합니다. 이중 filament 소스로 Hot-lip 가열을 하는 경우 용해 온도보다 충분히 더 높은 도가니 오리피스가 갈륨과 인듐 액적이 형성되는 것을 방지합니다. SUMO 감소 shutter 관련 flux transients로 성장한 재료의 결함 밀도를 측정합니다. SUMO 도가니의 소형 오리피스 뒤에 매입된 용해 표면은 대부분의 반사된 방사선을 차단합니다. 차폐 shutter에서 다시 반사된 열은 기존의 개방형 도가니로 흔히 볼 수 있는 shutter flux transients를 일으키지 않고 PBN 도가니로 확산됩니다.
  • 탁월한 재료 품질. 효율적인 이중 filament 가열로 결합된 PBN 도가니 구조와 소형 도가니 오리피스는 주변 시스템의 열 부하를 덜어 주고 성장층의 백그라운드 불순물을 줄여 줍니다.

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