그리드형 RF 이온 소스

그리드형 RF 이온 소스

Veeco의 그리드형 RF 이온 소스는 장기 이온 빔 증착 공정의 생산성 향상을 위해 설계되었습니다.

NOVUS RF 이온 소스 컨트롤러

이온 소스 작업 시 최첨단 정밀 제어 시스템 설계를 갖춘 Veeco의 NOVUS RF 이온 소스 컨트롤러를 사용해 안정적으로 전원을 공급받을 수 있습니다.

6cm x 22cm RF 이온 소스

Veeco의 6 x 22cm gridded 선형 RF 이온 소스는 substrate를 사용하는 고생산성 인라인 시스템용으로 설계되어 100% 반응성 가스를 사용하는 공정에 적합합니다.

6cm x 66cm RF 이온 소스

대규모 substrate의 균일 가공에 이상적인 Veeco의 6 x 66cm RF 선형 이온 소스는 유지관리의 필요성이 적고 filamentless 작업 방식으로 장기적인 생산 실행이 가능합니다.

16cm 고전력 RF 이온 소스

반응성 공정에서 사용하기 적합한 Veeco의 16cm RF HP(고전력) 이온 소스는 120cm에 걸쳐 10% 미만의 빔 균일성을 자랑합니다.

16cm RF 이온 소스

고도로 제어되는 광학 코팅의 이온 빔 보조 또는 이온 빔 증착 등 반응성 공정에서 폭넓게 사용되는 균일한 이온 빔 소스입니다.

12cm RF 이온 소스

Veeco 12cm RF 이온 소스를 사용하면 광학 코팅의 이온 빔 보조 증착 또는 이온 빔 증착과 같은 장기 무중단 반응성 공정의 성능과 품질을 높일 수 있습니다.