NEXUS IBE(Ion Beam Etch) 시스템

다양한 에너지 및 공정 각도에 걸쳐 최고의 균일성 발휘

EXUS® IBE™ 이온 빔 식각 시스템으로 슬라이더 수율을 극대화하고 탁월한 이온빔 식각 균일성을 얻을 수 있습니다. 광범위한 에너지 및 공정 각도에 걸쳐 최고의 균일성을 발휘하는 IBE 시스템은 차세대 ABS 단계 및 공동 공정의 식각 깊이 제어용으로 이상적입니다.

타의 추종을 불허하는 균일성과 우수한 식각 깊이 제어 성능 발휘
최고의 throughput과 컴팩트한 배치도로 소유 비용이 저렴
세계 정상급 NEXUS 하드웨어 및 소프트웨어 플랫폼에서 보편적인 기술과 손쉽게 통합 가능
식각 균일성과 공정 재현성을 향상시키는 NEXUS 이온 소스
공정 규격상 RF350 소스를 사용하는 작업인 경우 RF350 소스와 함께 사용 가능
현장에서 NEXUS 이온 소스로 업그레이드할 수 있어 경제적