16cm 고전력 RF 이온 소스

IAD(이온 보조 전자빔) 또는 sputter 증착 성능 최고

Veeco가 120cm에 걸친 빔 균일성이 10% 미만인 16cm RF 고전력(HP) 이온 소스를 발표했습니다. 이 소스는 IAD(이온 보조 전자빔) 또는 sputter 증착 공정과 같은 반응성 공정에 이상적입니다.

• 광범위한 고전력 작업 지원: 200eV에서 1500eV 및 200mA에서 1000mA 이상
• 비활성 환경과 산화 환경에서 안정적이고 균일한 작업 가능
• 전력 및 전류의 균일성을 향상하여 패킹 밀도와 산화 속도 제고 촉진
• 또한 stoichiometry 제어 성능을 높이며 보다 부드러운 피막 생성에 유리
• 광범위한 그리드 세트 제공 - 여러 가지 인터페이스 패키지를 이용하여 기존 이온 보조 전자빔 시스템을 손쉽게 업그레이드
• sputter 증착 시 상당한 증착 속도 개선 효과
• 우수한 박막 품질과 안정적인 공정 작업 보장