Veeco의 폭넓게 사용되는 균일한 이온 빔 소스는 고도로 제어되는 광학 코팅의 이온 빔 보조 증착 또는 이온 빔 증착 등의 반응성 공정에 사용됩니다.

• 광범위한 작업 지원: 50eV에서 1500eV 및 75mA에서 700mA
• 비활성 환경과 산화 환경에서 안정적이고 균일한 작업 가능
• 수냉식 - 저전력 및 고전력 작업
• 4그리드 설계 선택 시 고도의 collimation 가능
• 업계 유일의 filamentless RF Neutralizer를 특징으로 가지며, 유지보수 요구가 낮으며 장기간 프로덕션 운영이 가능합니다.
• 안정적이고 효율적인 플라즈마 작업으로 정밀 제어 및 고도의 재현성 발휘
• 배치 생산 및 load-locked production process에 모두 적합