6cm x 22cm RF 이온 소스

중간 및 대규모의 사전 세척, 식각, 증착에 사용되는 선형 RF 이온 소스

Veeco의 6 x 22cm gridded 선형 RF 이온 소스는 substrate 팔레트, 대량 substrate, 소량 substrate의 대규모 어레이를 사용하는 고생산성 인라인 시스템용으로 설계되었습니다. 고가용성 저유지관리 작업용으로 설계되었으며 100퍼센트 아르곤, 산소 또는 기타 반응성 기체를 사용하는 공정에 이상적입니다.

• 사전 세척, 식각 및 IBAD(이온 빔 보조 증착) 공정에서 적절한 전류 밀도와 균일성 발휘
• 유지관리 필요성이 적은 장기 무중단 생산 run에 적합
• 비활성 환경과 산화 환경에서 안정적이고 균일한 작업 가능
• 저전력에서 중전력 정도의 작업
• 안정적이고 효율적인 플라즈마 작업으로 정밀 제어 및 고도의 재현성 발휘