6cm x 66cm RF 이온 소스

대규모 substrate를 고도로 균일하게 이온 빔 가공

대규모 substrate의 균일 가공에 이상적인 Veeco의 6 x 66cm RF 선형 이온 소스는 100퍼센트의 아르곤, 산소 및 기타 반응성 기체에 대해 장기간 무중단 프로덕션 운영을 위해 유지보수가 요구가 낮은 filamentless 방식 작업을 지원합니다.

• 사전 세척, 식각 및 IBAD(이온 빔 보조 증착) 공정에서 적절한 전류 밀도와 균일성 발휘
• 수냉식
• 비활성 환경과 산화 환경에서 안정적이고 균일한 작업 가능
• 저전력 및 고전력 작업
• 업계 유일의 filamentless 방식 RF Neutralizer로 장시간 프로덕션 운영 가능
• 4그리드 설계 선택 시 고도의 collimation 가능
• 안정적이고 효율적인 플라즈마 작업으로 정밀 제어 및 고도의 재현성 발휘