Mark II+ 컨트롤러


End-Hall 이온 소스의 플라즈마 특성에 맞춰 설계

Mark II+ 이온 소스 컨트롤러로 이온 소스의 성능과 박막 식각, 세척 및 증착의 균일성을 극대화할 수 있습니다. End-Hall 이온 소스의 플라즈마 특성에 정확히 일치하도록 Veeco가 설계한 이 컨트롤러는 생산성이 매우 우수한 공정 run을 보장하며 이온 빔 출력을 정밀 제어합니다.

  • 첨단 스위칭 공급 장치
  • 가스 제어 통합
  • 자동화된 arc 복구
  • 사용자 친화적 그래픽 인터페이스와 자동화 기능으로 공정 생산성 향상
  • 고도로 균일하고 안정적인 이온 빔 공정에 일정한 전력 공급

당사의 팀에서 언제든 도와드립니다.