End-Hall 이온 소스의 플라즈마 특성에 맞춰 설계
Mark II+ 이온 소스 컨트롤러로 이온 소스의 성능과 박막 식각, 세척 및 증착의 균일성을 극대화할 수 있습니다. End-Hall 이온 소스의 플라즈마 특성에 정확히 일치하도록 Veeco가 설계한 이 컨트롤러는 생산성이 매우 우수한 공정 run을 보장하며 이온 빔 출력을 정밀 제어합니다.
당사의 팀에서 언제든 도와드립니다.