Substrate 히터는 일반 MBE 시스템의 직접 대체물로 선택 가능합니다. Veeco는 특정한 온도 및 성장 환경 조건에 따라 맞춤 조절된 용도별 substrate 히터를 제공합니다. 표준 히터의 경우 PBN 디퓨저 플레이트와 정교한 filament 설계 덕분에 탁월한 열 균일성을 발휘합니다. 텅스텐 와이어가 촘촘하게 감긴 filament는 표면 영역이 균일하게 가열됩니다. 와이어는 일정한 횡단면 균일성으핫스팟 형성을 방지하기 때문에 호일보다 선호됩니다. filament 어셈블리는 회전 방향과 반대의 일정한 패턴으로 정렬된 밀접 배치 병렬 와이어가 있어서 결합 및 비결합 블록 모두 균일하게 가열합니다. 효율적인 전력 소비는 substrate 히터의 특징입니다. Filament 표면 영역을 최대화하고 열 차폐 설계로 열 에너지를 substrate로 방출합니다. 전력/전류 소비는 OEM 히터 대비 최대 50퍼센트 만큼 감소할 수 있습니다. 배경 압력이 향상되고 유도 장애 감소로 RHEED 패턴이 명확해집니다. 주의 깊게 선정한 작업 재료 및 UHV 호환 제조 기법으로 청결하게 작업할 수 있습니다. 탄탈륨, 텅스텐 및 PBN만 표준 III-V 응용 분야에서 사용되는 히터의 hot zone에 사용됩니다. 효율적인 작업은 또한 성장 중 outgassing을 최소화합니다.

반응성이 뛰어난 텅스텐 와이어 filament는 신뢰성과 재현성을 보장합니다. 모양이나 위치 변경으로 성능 특성이 바뀌지 않도록 향상된 차단 시스템을 통해 제자리에 단단하게 고정되어 있습니다. PBN 디퓨저 플레이트는 substrate 이송 중 filament가 소스 재료로 코팅되거나 결함이 발생하는 것을 방지합니다.

substrate 히터 설계의 몇 가지 추가 개선 사항은 다음과 같습니다.

• 가열 융통성 최적화를 위한 이중 filament
• 고온 및 다른 성장 환경에도 응용 가능한 Filament 재료
• 다른 성장 환경에도 응용 가능한 디퓨저 재료