MBE(분자선 결정성장)에서 이 컴팩트한 dopant 소스를 통해 dopant constituent의 비교적 낮은 flux를 정밀하고 안정적으로 제어할 수 있습니다. 열 질량이 적어 반응성과 재현성, 안정성이 탁월하므로 까다로운 doping 프로필에 알맞고, platen 전체적으로 flux uniformity가 일정하게 발휘됩니다. cell 가열 효율이 높아 열 부하가 최소 수준입니다.

• 고효율
• dopant flux 작업 맞춤 조정
• 탁월한 결합 균일성 제공
• 최소한의 오버슈트로 안정화를 신속화하도록 설계
• 고도의 재현성과 안전성
• 현장에서 620개 이상 R&D 및 생산 가능

Veeco dopant 소스는 효율적인 작업, 신속한 열 반응성, 탁월한 flux uniformity를 실현하도록 설계되었습니다. dopant 재료로 사용되는 상대적으로 적은 충전량으로 우수한 균일성을 얻으려면 테이프 각도가 큰 원추형 PBN 도가니를 사용해서 substrate platen 전체에 걸쳐 빔 shadowing 또는 collimation 없이 탁월한 flux 분배를 확보합니다.

소스는 주변 MBE 성장 챔버에 과도한 열 부하를 주지 않고 대부분의 dopant 재료에서 필요한 상대적으로 높은 증발 온도에서 효율적으로 작동합니다. 작은 dopant 소스가 단일 filament로 가열되는 반면에 더 큰 dopant는 병렬로 작동하는 한 쌍의 동심 히터 flament으로 가장 안전하고 효율성 있는 소스 가열 및 반응성을 갖추고 있습니다.

단일 웨이퍼 MBE 시스템용 Dopant 소스의 작은 크기 덕분에 이 소스를 가스 주입 튜브로 장착 플랜지 하나에 결합할 수 있어 단일 소스 포트에 사용 가능한 dopant 범위가 확장됩니다. 소스 flament로 가열되는 가스 주입구는 CBr4 등과 같은 열 예균열이 필요 없는 가스용입니다. 기타 맞춤 구성으로는 6”/12mm 단일 플랜지에 장착된 5cc Dopant 소스 두 개, 4.5”/114mm 단일 플랜지에 장착된 1.5cc 소스 두 개가 있습니다.