Mark II+ Gridless 고출력

고전류 저에너지 이온이 요구되는 경우 사용

공동 음극을 사용하는 Mark II+ Gridless 고출력 이온 소스는 직경 70cm - 130cm의 챔버에서 진행되는 진공 코팅 공정용으로 설계되었습니다.

• 고전류 저에너지 이온이 요구되는 표면 사전 세척 및 보조 증착 작업용
• 피막 응력 및 stoichiometry 제어 향상
• 수냉식
• 정밀 또는 산업용 광학 코팅 환경에 적합
• 유연한 통합 방식으로 공간 절약형 시스템 설계와 광범위한 빔 각도 이용 가능
• 공정 요건에 따라 filament 포함 또는 배제 구성 가능