NEXUS IBD-LDD 이온 빔 증착 시스템

이온 빔 제품 분야에서 축적된 20년의 구축 리더십으로 오늘날의 결함 없는 초자외선(EUV) 마스크 블랭크 사용 가능

포토마스크 제조는 정교한 다층의 박막 구조를 증착하는 동시에 높은 수준의 입자 제어를 요구합니다. 이러한 과제는 Veeco의 Nexus IBD-LDD 이온 빔 증착 시스템으로 해결됩니다. Veeco는 1990년대 이후로 포토마스크 시장을 성공적으로 이끌어 왔으며 수년간의 학습을 통해 오늘날의 첨단 시스템을 개발했습니다. IBD-LDD 시스템은 요즘과 같이 초자외선(EUV) 마스크에 블랭크에서 뿐 아니라 낮은 결함 수준과 고급 박막이 필요한 기타 마스크 응용 분야에서 몰리브덴(Mo) 및 실리콘(Si) 다층 증착 및 루테늄(Ru) 캡핑 층 증착에 이상적입니다.

• 생산 현장에서 입증된 플랫폼
• 최저 수준의 결함 밀도
• 탁월한 균일성과 높은 재현성
• 높은 반사율
• 동일한 챔버에서 다양한 재료 증착
• 다른 공정 모듈로 통합하여 cluster tool 구성 가능