Veeco의 Propel™ MOCVD(유기 금속 화학 증착) 시스템은 질화물 응용 분야에 대한 초기 단계 연구와 개발 및 소규모 생산 요구를 위한 유연한 플랫폼으로 설계되었습니다. 리액터는 실행과 실행 사이에 하드웨어 수정 없이도 실리콘, 사파이어 및 탄화규소섬유(SiC)와 같은 다양한 substrate에서 9×2”, 3×4”, 1×6” 및 1×8”를 처리할 수 있습니다. 시스템은 전력, RF 및 포토닉스와 같은 여러 응용 분야를 위한 고품질 GaN 필름을 증착합니다. R200 리액터는 전체 웨이퍼에 층상 흐름 및 균일한 온도 프로파일을 제공하는 IsoFlange™ 및 SymmHeat™ 신기술을 비롯해 Veeco의 주요한 TurboDisc® 설계를 기반으로 합니다. 고객은 Veeco D180, K465i™ 및 MaxBright™ 시스템에서 Propel GaN MOCVD(유기 금속 화학 증착) 플랫폼으로 쉽게 공정을 이송할 수 있습니다.

200mm(8”) 실리콘 substrate에서 Veeco® Propel® TurboDisc® MOCVD(유기 금속 화학 증착) 도구에 GaN HEMT 구조를 키우는 방법에 대한 기본적인 공정 정보에 액세스합니다. 이 정보는 어떠한 종류의 상용 시스템이나 응용 분야에서든 사용할 수 있도록 설계, 의도, 권장 또는 허가되지 않았습니다.