생산을 위한 ALD

대규모 substrate에 대한 균일성, 재현성 및 저온 증착으로 인해 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition)은 차세대 대규모 제조 박막 기술에 이상적인 후보가 되었습니다.

Veeco는 프로세스를 확장하고 전 세계 자동화 라인 및 cluster tool에 구현하여 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition)을 제조 등급 기술로 완벽하게 구축했습니다. 당사의 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 시스템을 통합한 제조업체들은 이전의 코팅 기술에 비해 제품 품질 및 신뢰성뿐만 아니라 운영 비용 감소와 보다 친환경적인 풋프린트를 보였습니다.

배치 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 도구: Phoenix®

생산 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition)이 필요하다면 당사의 Phoenix® 생산 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 시스템이 올바른 선택입니다. Phoenix®는 한 번에 다수의 substrate를 보유할 수 있는 배치 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 도구입니다. 고유한 챔버 설계로 배치에서 배치 사이에 정확한 필름을 보장합니다
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HVM 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 도구: Firebird™

Firebird™ HVM 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition) 시스템은 긴 캠페인 및 향상된 서비스 기능을 통해 소규모 배치 사전 생산 평가부터 확대 생산까지 소유 비용 요구 사항 그 이상을 지원합니다. 한 달에 최대 40,000장의 웨이퍼까지 throughput을 제공하는 Firebird™는 업계최고의 생산성, 우수한 필름 성능 및 낮은 운영 비용이라는 이점을 결합하여 특수 웨이퍼 생산에 필요한 가장 까다로운 대량 제조 요구를 충족시킵니다.
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